Reinigungsaufgaben und Reinigungsprozesse in der Elektronikindustrie

Reinigen in der Elektronikindustrie beschreibt einen Prozess, der umso komplexer wird, je anspruchsvoller die zu reinigenden Werkstücke gefertigt sind. Aber auch schon in der Wartungsreinigung, also dem Säubern von Produktionsmitteln aus der Fertigung, wie z.B.  Lötrahmen, Fluxfilter oder Rakel und Spachtel können bereits die unterschiedlichen chemischen Zusammensetzungen von Kleber oder Pasten und die Eigenheiten der Produktionsumgebung (Maschinencharakteristik, Temperaturen) die Reinigungsergebnisse signifikant beeinflussen.

Spätestens in der Fein- und Feinstreinigung, also dem sorgfältigen Säubern z.B. hochempfindlicher und komplexer Baugruppen, Substrate oder Hybride, ist ein verlässlich reproduzierbarer, perfekter Reinigungsprozess ein Zusammenspiel nicht nur offensichtlicher, sondern oft auch versteckter Details.

Nicht allein die Reinigungsmaschine, das Reinigungsmedium und das zu reinigende Produkt sind ausschlaggebend für einwandfreies Ergebnis. Schon eine minimale Veränderung in der Metalllegierung einer Siebschablone, die kleinste Divergenz der Inhaltsstoffe einer Paste oder der sich verändernde Kalkgehalt des Spülwassers können oft bedeutende Auswirkungen auf Erfolg oder Misserfolg des Reinigungsergebnisses haben; um nur einige der versteckten Details, die es immer wieder zu beachten gilt.

kolb beschäftigt sich seit 20 Jahren als Komplettanbieter mit diesen komplexen  Anforderungen. Unsere Reinigungsanlagen und unsere Reinigungschemie entstehen aus der permanenten Analyse komplexer Anforderungsszenarien, sodass wir für jeden Prozess die beste Maschinenkonfiguration, den optimalen Reiniger und das effizienteste Prozessprogramm liefern können.

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Vom 14. bis 17. November 2017 stellen wir in München aus. Weitere Informationen erfolgen zeitnah zur Messe.

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